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石墨烯的X 射线光电子能谱分析（XPS）
XPS是一种表面敏感技术，用于分析表面化学成分以及成分和成健的深度剖面。
陈Chen et al.（2011）在研究化学气相沉积生长的石墨烯薄膜保护金属生长基底表面的能力时（受空气氧化的铜和铜/镍合金的金属生长基底），通过X射线光电子能谱（XPS）显示即使在空气中以200℃的温度加热长达4小时后金属表面仍不受氧化。
X 射线光电子能谱（XPS）的另一个应用是由Yang etal.（2009）在热处理和化学处理后，测定氧化石墨烯薄膜的化学分析时发现的。它们可以显示石墨烯薄膜的氧含量显著减少；超高真空加热被认为是特别有效的。根据X 射线光电子能谱的数据，他们得出的结论是，这样的薄膜具有显著的还原性，在高温和特别是在超高真空下加热更具优势，能产生大的还原度。X射线光电子能谱对指定还原度十分重要。