靶中毒现象
(1)正离子堆积：靶中毒时，靶面形成一层绝缘膜，正离子到达阴极靶面时由于绝缘层的阻挡，无锡真空电镀工艺，不能直接进入阴极靶面，而是堆积在靶面上，容易产生冷场致弧光放电---打弧，使阴极溅射无法进行下去。（2）阳极消失：靶中毒时，接地的真空室壁上也沉积了绝缘膜，到达阳极的电子无法进入阳极，形成阳极消失现象。
靶中毒的物理解释
（1）一般情况下，金属化合物的二次电子发射系数比金属的高，靶中毒后，靶材表面都是金属化合物，在受到离子轰击之后，释放的二次电子数量增加，提高了空间的导通能力，降低了等离子体阻抗，导致溅射电压降低。从而降低了溅射速率。一般情况下磁控溅射的溅射电压在400V-600V之间，当发生靶中毒时，溅射电压会显著降低。（2）金属靶材与化合物靶材本来溅射速率就不一样，一般情况下金属的溅射系数要比化合物的溅射系数高，所以靶中毒后溅射速率低。（3）反应溅射气体的溅射效率本来就比惰性气体的溅射效率低，所以反应气体比例增加后，综合溅射速率降低。
靶中毒的解决办法
（1）采用中频电源或射频电源。（2）采用闭环控制反应气体的通入量。（3）采用孪生靶（4）控制镀膜模式的变换：在镀膜前，无锡真空电镀电话，采集靶中毒的迟滞效应曲线，无锡真空电镀，使进气流量控制在产生靶中毒的前沿，确保工艺过程始终处于沉积速率陡降前的模式。
首先是看的这个产品对象，它是大面积平直表面还是小圆弧表面的产品？圆弧表面的小件产品在电镀加工时比较好做，无锡真空电镀加工，一般条件的电镀加工厂家就可以做到基本上没有小点产生，良品率也比较高。而大面积平直表面的产品才能检验这个电镀加工企业的水平能力了，在排除产品毛坯材质没有问题的情况下，大面积平直表面产品表面电镀亮铬要做到没有点不是那么容易的。行业中，也只有少数电镀加工企业可以做得好。
我们都知道，电镀质量会直接影响首饰的美观以及整体性能。如在深圳真空电镀加工过程中，k金使用真金靶材，通过高温使真金附着在产品表面，这样的工艺保色更持久。而且可供的镀膜颜色多种多样，能够大大提升首饰的美观程度。
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